专利详情

专利名称	一种复合阴离子交换膜及其制备和应用
申请号	CN201110186832.3	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN102867929A	公开（授权）日	2013.01.09
申请（专利权）人	中国科学院大连化学物理研究所;大连融科储能技术发展有限公司	发明（设计）人	张华民;张凤祥;曲超;刘波;王晓丽
主分类号	H01M2/16(2006.01)I	IPC主分类号	H01M2/16(2006.01)I;H01M8/02(2006.01)I;C08J5/22(2006.01)I
专利有效期	一种复合阴离子交换膜及其制备和应用至一种复合阴离子交换膜及其制备和应用	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明涉及一种复合阴离子膜及其制备和应用。该膜由卤甲基化聚合物、离子交换基前体、双效交联剂和增强材料制备而成。在制备过程中，双效交联剂将增强物分子链与导离子聚合物分子链“锁”在一起，形成强制性互穿网络，避免宏观相分离。该方法简单易行、成本低，实施过程对膜的强度本身没有伤害，所得阴离子膜具有稳定的界面和机械稳定性，膜的电导率和耐溶胀性可以同时得到保障。