异价离子协同掺杂高光产额钨酸铅晶体及其制备方法
- 申请号:CN200610148126.9
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院上海硅酸盐研究所
- 公开(公开)号:CN101092746
- 公开(公开)日:2007.12.26
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
| 专利名称 | 异价离子协同掺杂高光产额钨酸铅晶体及其制备方法 | ||
| 申请号 | CN200610148126.9 | 专利类型 | 发明专利 |
| 公开(公告)号 | CN101092746 | 公开(授权)日 | 2007.12.26 |
| 申请(专利权)人 | 中国科学院上海硅酸盐研究所 | 发明(设计)人 | 严东生;谢建军;袁晖;廖晶莹;沈炳孚;童乃柱;邵培发;叶崇志;熊巍;李培俊;吴泓澍;展宗贵;陈良;朱翔宇 |
| 主分类号 | C30B29/32(2006.01) | IPC主分类号 | C30B29/32(2006.01) |
| 专利有效期 | 异价离子协同掺杂高光产额钨酸铅晶体及其制备方法 至异价离子协同掺杂高光产额钨酸铅晶体及其制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
| 说明书摘要 | 本发明涉及异价离子协同掺杂高光产额钨酸铅晶体及其制备方法,属于晶体生长领域。本发明用F-和Sb3+离子双掺杂,在此基础上引入Mo6+,V5+,Nb5+,Zr4+和Ti4+等高价离子协同掺杂来提高钨酸铅晶体的光产额,掺杂量分别为100~8000ppm(at%)、100~5000ppm(at%)和0~10000ppm(at%),制备方法上利用改进的坩埚下降法来生长具有相对较快衰减,光产额明显提高的阴阳异价离子协同掺杂的钨酸铅单晶。使用铂金坩埚生长。本发明可以同时生长多根高光产额PWO晶体,适于批量生产。 | ||
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