专利详情

专利名称	一种高分子原位修饰的超顺磁性颗粒、制备方法及其用途
申请号	CN201310302421.5	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN103405790A	公开（授权）日	2013.11.27
申请（专利权）人	中国科学院过程工程研究所	发明（设计）人	张欣;代凤英;钟砚琦
主分类号	A61K49/12(2006.01)I	IPC主分类号	A61K49/12(2006.01)I;A61K49/18(2006.01)I
专利有效期	一种高分子原位修饰的超顺磁性颗粒、制备方法及其用途至一种高分子原位修饰的超顺磁性颗粒、制备方法及其用途	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明公开了一种高分子原位修饰的超顺磁性颗粒，所述超顺磁性颗粒由位于核心的四氧化三铁纳米粒子及包覆在其表面的PEG-PAA组成。将溶于多元醇溶液的铁源和嵌段高分子在高温下反应得到PEG包覆的超顺磁性四氧化三铁颗粒。通过使PEG包裹在超顺磁性氧化铁颗粒外围的方法，增强了产物的化学稳定性和生物相容性，使产物可在生理环境中长时间稳定存在，有利于在体内保持长循环。本发明解决了现有商品化造影剂结晶度低、饱和磁化强度小、MRI成像效果差的问题，且具有很好的生物相容性，可被开发用于核磁共振成像的造影剂。