专利详情

专利名称	一种超导腔的制备方法
申请号	CN201310577308.8	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN103619119A	公开（授权）日	2014.03.05
申请（专利权）人	中国科学院近代物理研究所	发明（设计）人	何源;张生虎;岳伟明
主分类号	H05H7/00(2006.01)I	IPC主分类号	H05H7/00(2006.01)I;B22F3/105(2006.01)I;C04B35/58(2006.01)I
专利有效期	一种超导腔的制备方法至一种超导腔的制备方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明主要涉及射频超导加速腔的制造。一种超导腔的制备方法，包括使用CAD软件生成超导腔模型，采用分层软件对其进行分层；使用真空系统为成型室提供真空环境；将超导材料粉末摊铺到成形室成型台上；根据超导腔切片层的软件模型描述，将电子束能量“打印”到粉末层上，产生超导材料切片层实体，该实体成为超导腔体的一部分；下一切片层又在第一个切片层实体上面继续被加工，一直到整个超导腔加工过程完成。本发明方法，缩短了超导腔研制周期；整个超导腔无焊缝，提高了超导腔研制的成品率；能保证超导材料的纯度；不受冲压成形条件的限制，可以提高超导腔的性能；制造过程中多余的超导材料粉末可以重复使用，降低了生产成本。