
应用于液体转印的染料敏化的多孔聚合物疏水薄膜
- 申请号:CN201310597582.1
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院化学研究所
- 公开(公开)号:CN103625142A
- 公开(公开)日:2014.03.12
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
专利名称 | 应用于液体转印的染料敏化的多孔聚合物疏水薄膜 | ||
申请号 | CN201310597582.1 | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN103625142A | 公开(授权)日 | 2014.03.12 |
申请(专利权)人 | 中国科学院化学研究所 | 发明(设计)人 | 李牧忱;衡利苹;江雷 |
主分类号 | B41M5/00(2006.01)I | IPC主分类号 | B41M5/00(2006.01)I;C08J9/36(2006.01)I;C08J9/28(2006.01)I;D06P5/24(2006.01)I |
专利有效期 | 应用于液体转印的染料敏化的多孔聚合物疏水薄膜 至应用于液体转印的染料敏化的多孔聚合物疏水薄膜 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
说明书摘要 | 本发明涉及应用于液体转印的薄膜,特别涉及应用于液体转印的染料敏化的多孔聚合物疏水薄膜。本发明的多孔聚合物疏水薄膜是由式1所示的聚合物通过水滴模板法制备而成的具有蜂窝状微米孔道结构的多孔聚合物薄膜,并且用式2所示的N3染料敏化此多孔聚合物薄膜,和经1H,1H,2H,2H-全氟癸基三甲氧基硅烷表面改性处理后得到的。本发明的应用于液体转印的染料敏化的多孔聚合物疏水薄膜具有对光电刺激的浸润性响应,通过光电协同刺激可精确地调节其表面的光电浸润性,实现图案化浸润进而可应用在液体转印中。。 |
交易流程
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专利 -
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