专利详情

专利名称	一种紫外光固化纳米压印聚合物模板的制备方法
申请号	CN201310655957.5	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN103631089A	公开（授权）日	2014.03.12
申请（专利权）人	中国科学院光电技术研究所	发明（设计）人	邓启凌;张满;史立芳;胡松;曹阿秀;秦燕云;李志炜
主分类号	G03F7/00(2006.01)I	IPC主分类号	G03F7/00(2006.01)I
专利有效期	一种紫外光固化纳米压印聚合物模板的制备方法至一种紫外光固化纳米压印聚合物模板的制备方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明涉及一种紫外光固化纳米压印聚合物模板的制备方法，包括如下步骤：1）对表面含有浮雕纳米结构的纳米压印模板进行表面防粘处理；2）对一块刚性基片进行偶联处理；3）在步骤2）中经过偶联处理的刚性基片上涂覆一层巯基-烯材料；4）将步骤1）中经过防粘处理的纳米压印模板和步骤3）中的表面涂覆巯基-烯材料的刚性基片放置在纳米压印机中进行对准压印；5）利用紫外光将巯基-烯材料固化成型；6）纳米压印模板脱模后，对巯基-烯材料结构层进行表面防粘处理，制备获得纳米压印聚合物模板。本发明的显著特点是制备过程无需刻蚀和高真空条件，大大简化了制备工艺，降低了制作成本，促进了纳米压印聚合物模板在纳米结构制备领域的广泛应用。