专利详情

专利名称	一种刻蚀衍射光栅型波分复用/解复用器
申请号	CN201310616114.4	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN103645540A	公开（授权）日	2014.03.19
申请（专利权）人	中国科学院半导体研究所	发明（设计）人	王玥;张家顺;安俊明;吴远大;王红杰;李建光;胡雄伟
主分类号	G02B6/124(2006.01)I	IPC主分类号	G02B6/124(2006.01)I;G02B6/122(2006.01)I
专利有效期	一种刻蚀衍射光栅型波分复用/解复用器至一种刻蚀衍射光栅型波分复用/解复用器	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明公开了一种刻蚀衍射光栅型波分复用/解复用器，包括输入波导、输出波导、自由传输平板波导区和刻蚀衍射光栅，输入波导和输出波导位于自由传输平板波导区的同一侧，并均与自由传输平板波导区相连，自由传输平板波导区的另一侧与刻蚀衍射光栅相连，刻蚀衍射光栅的光栅面采用二维光子晶体反射镜结构。采用二维光子晶体反射镜结构替代常规刻蚀衍射光栅的光栅面，可以有效降低器件制作工艺难度，有效降低光栅介质与空气界面之间存在着的较大的菲涅尔反射损耗，从而降低器件的插入损耗；并可实现单一偏振模式的全反射，而另一偏振模式则全部透射，实现器件的偏振保持。