
半导体器件结构及其制作方法
- 申请号:CN201210333470.0
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院微电子研究所
- 公开(公开)号:CN103681461A
- 公开(公开)日:2014.03.26
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
专利名称 | 半导体器件结构及其制作方法 | ||
申请号 | CN201210333470.0 | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN103681461A | 公开(授权)日 | 2014.03.26 |
申请(专利权)人 | 中国科学院微电子研究所 | 发明(设计)人 | 钟汇才;梁擎擎;罗军;朱慧珑 |
主分类号 | H01L21/768(2006.01)I | IPC主分类号 | H01L21/768(2006.01)I;H01L21/8234(2006.01)I;H01L27/088(2006.01)I |
专利有效期 | 半导体器件结构及其制作方法 至半导体器件结构及其制作方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
说明书摘要 | 本申请公开了一种半导体器件结构及其制作方法。根据一示例,该方法包括:在衬底上设置有源区;在衬底上形成至少一条连续的栅极线,所述栅极线经由栅介质层与有源区相交;绕所述栅极线形成电介质侧墙;在所述栅极线的两侧,在有源区中形成源/漏区;形成与源/漏区电接触的接触部;在第一预定区域处,在接触部中形成沟槽,所述沟槽并未切断接触部;以及在第二预定区域处,实现器件间电隔离,被隔离的栅极线部分形成相应单元器件的栅极。 |
交易流程
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01
选取所需
专利 -
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可交易 - 03 签订合同
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成功 - 06 支付尾款
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