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光刻机光瞳整形单元结构及其衍射光学元件设计方法

  • 申请号:CN201310576235.0
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院上海光学精密机械研究所
  • 公开(公开)号:CN103676498A
  • 公开(公开)日:2014.03.26
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 光刻机光瞳整形单元结构及其衍射光学元件设计方法
申请号 CN201310576235.0 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN103676498A 公开(授权)日 2014.03.26
申请(专利权)人 中国科学院上海光学精密机械研究所 发明(设计)人 司徒国海;蔡燕民;黄惠杰;王向朝
主分类号 G03F7/20(2006.01)I IPC主分类号 G03F7/20(2006.01)I;G02B27/09(2006.01)I;G02B27/00(2006.01)I
专利有效期 光刻机光瞳整形单元结构及其衍射光学元件设计方法 至光刻机光瞳整形单元结构及其衍射光学元件设计方法 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 一种光刻机光瞳整形单元结构及其衍射光学元件的设计方法,光瞳整形单元包括级联衍射光学元件和变焦距准直透镜组。级联衍射光学元件包括第一衍射光学元件和第二衍射光学元件,这两片衍射光学元件的通光表面均垂直于照明系统光轴,这两片衍射光学元件均为纯位相元件。所述的级联衍射光学元件的设计方法,包括以下步骤:相位单元周期的计算;入射光束和确定所需光束的光强分布并进行离散化处理;对第二衍射光学元件和第一衍射光学元件的初始位相矩阵进行赋值;采用迭代算法,并进行量化处理,得到第二衍射光学元件和第一衍射光学元件的量化位相矩阵;评估设计结果。

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