米量级光学元件的超高精度加工方法
- 申请号：CN201310554717.6
- 专利类型：发明专利
- 申请（专利权）人：中国科学院上海光学精密机械研究所
- 公开(公开)号：CN103692294A
- 公开(公开)日：2014.04.02
- 法律状态：实质审查的生效
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专利详情
| 专利名称 | 米量级光学元件的超高精度加工方法 | ||
| 申请号 | CN201310554717.6 | 专利类型 | 发明专利 |
| 公开（公告）号 | CN103692294A | 公开（授权）日 | 2014.04.02 |
| 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 魏朝阳;顾昊金;程鑫;易葵;邵建达 |
| 主分类号 | B24B1/00(2006.01)I | IPC主分类号 | B24B1/00(2006.01)I |
| 专利有效期 | 米量级光学元件的超高精度加工方法 至米量级光学元件的超高精度加工方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
| 说明书摘要 | 一种米量级光学元件的超高精度加工方法，该方法利用环形抛光技术和磁流变抛光技术相结合，通过对不同加工工艺参数的优化组合，实现了对米量级光学元件的超高精度加工，该方法加工出面形精度的PV值达到1/8波长，RMS值达到1/50波长的米量级光学元件。 | ||
交易流程
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选取所需
专利 -
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确认专利
可交易 - 03 签订合同
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成功 - 06 支付尾款
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平台保障
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