专利详情

专利名称	在扫描曝光光路中精确调整干涉条纹方向的方法
申请号	CN201310693376.0	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN103698836A	公开（授权）日	2014.04.02
申请（专利权）人	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	发明（设计）人	姜珊;巴音贺希格;宋莹;李文昊;潘明忠
主分类号	G02B5/32(2006.01)I	IPC主分类号	G02B5/32(2006.01)I;G02B5/18(2006.01)I;G03H1/12(2006.01)I
专利有效期	在扫描曝光光路中精确调整干涉条纹方向的方法至在扫描曝光光路中精确调整干涉条纹方向的方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	一种在扫描曝光光路中精确调整干涉条纹方向的方法，涉及光谱技术领域，要解决的技术问题是提供一种高精度调整干涉条纹方向的方法，解决技术问题的技术方案为：将基准光栅置于二维运动工作台上；配备一套扫描曝光光路；调节反射镜使曝光光束均满足Littrow条件；沿扫描方向移动工作台，根据CCD上观察到的干涉图样变化情况调节基准光栅方向；调节平面反射镜，使两光束在位置PSD和角度PSD上重合。采用本发明所述的方法能精确调节干涉条纹方向，为扫描干涉场曝光系统在扫描过程中的对比度提供了保证，对扫描曝光全息光栅的制作具有较大的实际意义。