基于受激光发射损耗的激光直写曝光装置
- 申请号：CN201410029950.7
- 专利类型：发明专利
- 申请（专利权）人：中国科学院上海光学精密机械研究所
- 公开(公开)号：CN103777473A
- 公开(公开)日：2014.05.07
- 法律状态：著录事项变更
- 出售价格： 面议 立即咨询
专利详情
| 专利名称 | 基于受激光发射损耗的激光直写曝光装置 | ||
| 申请号 | CN201410029950.7 | 专利类型 | 发明专利 |
| 公开（公告）号 | CN103777473A | 公开（授权）日 | 2014.05.07 |
| 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 朱菁;黄惠杰;杨宝喜;宋强;张方;王键;陈明;李璟 |
| 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 专利有效期 | 基于受激光发射损耗的激光直写曝光装置 至基于受激光发射损耗的激光直写曝光装置 | 法律状态 | 著录事项变更 |
| 说明书摘要 | 一种基于受激发射光损耗激光直写曝光装置，其特点在于其构成包括激发光源、退激发光源、第一空间光调制器、第二空间光调制器、二分之一波片组、二向色镜、相位型波带片、振幅型波带片、高数值孔径消色差物镜和三维扫描平台。本发明可实现高分辨、长焦深的光学曝光。 | ||
交易流程
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01
选取所需
专利 -
02
确认专利
可交易 - 03 签订合同
- 04 上报材料
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05
确认变更
成功 - 06 支付尾款
- 07 交付证书
过户资料
平台保障
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4、专员跟进，交易保障
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