
准纳米线晶体管及其制造方法
- 申请号:CN201210407807.8
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院微电子研究所
- 公开(公开)号:CN103779226A
- 公开(公开)日:2014.05.07
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
专利名称 | 准纳米线晶体管及其制造方法 | ||
申请号 | CN201210407807.8 | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN103779226A | 公开(授权)日 | 2014.05.07 |
申请(专利权)人 | 中国科学院微电子研究所 | 发明(设计)人 | 朱慧珑;梁擎擎;尹海洲;骆志炯 |
主分类号 | H01L21/336(2006.01)I | IPC主分类号 | H01L21/336(2006.01)I;H01L29/78(2006.01)I;B82Y10/00(2011.01)I |
专利有效期 | 准纳米线晶体管及其制造方法 至准纳米线晶体管及其制造方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
说明书摘要 | 本发明提供一种准纳米线晶体管及其制造方法,该方法包括:提供SOI衬底,该SOI衬底包括基底层(100),BOX层(120)和SOI层(130);在SOI层上形成鳍片基体,所述鳍片基体包括至少一组硅/硅锗叠层;在鳍片基体的两侧形成源漏区(110);由鳍片基体以及其下的SOI层形成准纳米线鳍片;横跨所述准纳米线鳍片形成栅堆叠。该方法可以有效地控制栅长特性。本发明还提供了根据上述方法形成的半导体结构。 |
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