专利详情

专利名称	一种高NA投影物镜
申请号	CN201410155301.1	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN103885159A	公开（授权）日	2014.06.25
申请（专利权）人	中国科学院光电技术研究所	发明（设计）人	白瑜;邢廷文;吕保斌;邓超;朱红伟;廖志远
主分类号	G02B13/18(2006.01)I	IPC主分类号	G02B13/18(2006.01)I;G02B13/14(2006.01)I;G02B13/00(2006.01)I;G02B17/08(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I
专利有效期	一种高NA投影物镜至一种高NA投影物镜	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明提出了一种高NA投影物镜，用于将掩膜面的图像成像到硅片面内。该高NA投影物镜，由第一单元、第二单元、第三单元、第四单元、第五单元、第六单元、第七单元、第八单元、第九单元和第十单元组成。其中第一单元L1、第二单元L2、第三单元L3、第五单元L5、第八单元L8具有正光焦度，第七单元L7、第九单元L9、第十单元L10具有负光焦度，第四单元L4、第六单元L6为45°放置的平面反射镜。本发明的高NA投影物镜可将物成缩小1/4的像，具有数值孔径大，分辨力高，结构紧凑，成像质量好等优点。