专利详情

专利名称	一种计算机硬盘的化学机械抛光液
申请号	CN201210587505.3	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN103897604A	公开（授权）日	2014.07.02
申请（专利权）人	上海新安纳电子科技有限公司;中国科学院上海微系统与信息技术研究所	发明（设计）人	宋晗;王良咏;刘卫丽;宋志棠
主分类号	C09G1/02(2006.01)I	IPC主分类号	C09G1/02(2006.01)I
专利有效期	一种计算机硬盘的化学机械抛光液至一种计算机硬盘的化学机械抛光液	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明涉及计算机领域，具体涉及一种可有效应用于计算机NiP硬盘的计算机硬盘化学机械抛光液。计算机硬盘化学机械抛光液，为含有氧化剂、研磨粒子、盐类添加剂以及pH调节剂的水溶液；所述盐类添加剂通式为X-R-Y，其中X为阳离子，Y为阴离子，R为直链烃基或其衍生物。通过本发明提供的化学机械抛光浆液，硬盘的抛光速率达到了90nm/min,表面粗糙度较低，硬盘的表面质量和加工效率得到了有效的提高。