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一种基于SOI工艺的高精度硅微谐振式气压传感器

  • 申请号:CN201210587264.2
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院电子学研究所
  • 公开(公开)号:CN103900753A
  • 公开(公开)日:2014.07.02
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 一种基于SOI工艺的高精度硅微谐振式气压传感器
申请号 CN201210587264.2 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN103900753A 公开(授权)日 2014.07.02
申请(专利权)人 中国科学院电子学研究所 发明(设计)人 陈德勇;曹明威;王军波
主分类号 G01L9/00(2006.01)I IPC主分类号 G01L9/00(2006.01)I;B81B3/00(2006.01)I
专利有效期 一种基于SOI工艺的高精度硅微谐振式气压传感器 至一种基于SOI工艺的高精度硅微谐振式气压传感器 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 本发明公开了一种基于SOI工艺的电磁激励电磁检测的高精度硅微谐振式气压传感器。其核心部件是传感器芯片,由包含SOI工艺制作的单晶硅H型谐振器及单晶硅压力敏感膜的SOI硅片和带有引线通孔的硼硅玻璃盖片通过真空阳极键合形成。单晶硅H型谐振器工作于参考真空中,不受待测气压介质的影响,品质因数较高,频率输出稳定。本发明在实现圆片级真空封装的同时,解决了圆片级封装引线困难的问题。

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