专利详情

专利名称	一种GST中性化学机械抛光液
申请号	CN201210586914.1	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN103897603A	公开（授权）日	2014.07.02
申请（专利权）人	上海新安纳电子科技有限公司;中国科学院上海微系统与信息技术研究所	发明（设计）人	闫未霞;王良咏;刘卫丽;宋志棠
主分类号	C09G1/02(2006.01)I	IPC主分类号	C09G1/02(2006.01)I
专利有效期	一种GST中性化学机械抛光液至一种GST中性化学机械抛光液	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明涉及化学机械抛光液领域，尤其涉及一种可有效应用于相变材料GST的化学机械抛光液。本发明提供一种GST中性化学机械抛光液，以重量百分比计，包括如下组分：二氧化硅抛光颗粒0.2-30wt%；氧化剂0.01-5wt%；表面活性剂0.01-4wt%；余量为pH值调节剂和去离子水；所述GST中性化学机械抛光液的pH值为6-8。本发明提供的用于相变材料GST的中性化学机械抛光液，所述的经过烷基改性，金属氧化物包裹，胺型改性，无机离子改性等方法改性的SiO₂抛光颗粒，在pH值6-8范围内，zeta电位的绝对值30-80mv，胶体达到了稳定，从而形成稳定的中性化学机械抛光液。