
二维分辨扫描成像红外调制光致发光光谱测试装置及方法
- 申请号:CN201410120925.X
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院上海技术物理研究所
- 公开(公开)号:CN103913439A
- 公开(公开)日:2014.07.09
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
专利名称 | 二维分辨扫描成像红外调制光致发光光谱测试装置及方法 | ||
申请号 | CN201410120925.X | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN103913439A | 公开(授权)日 | 2014.07.09 |
申请(专利权)人 | 中国科学院上海技术物理研究所 | 发明(设计)人 | 邵军;陈熙仁 |
主分类号 | G01N21/63(2006.01)I | IPC主分类号 | G01N21/63(2006.01)I |
专利有效期 | 二维分辨扫描成像红外调制光致发光光谱测试装置及方法 至二维分辨扫描成像红外调制光致发光光谱测试装置及方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
说明书摘要 | 本发明公开一种二维分辨扫描成像红外调制光致发光光谱测试装置及方法。该装置包括具有步进扫描功能的傅立叶变换红外光谱仪、作为激发光源的泵浦光系统、用于精确定位的五轴调节与复位控制平台及平行校正系统、联接傅立叶变换红外光谱仪中探测器和电路控制板的锁相放大器和泵浦激光源之间光路上的斩波器。本发明还基于上述设备,提出实现波段覆盖4-20μm宽波段的二维空间分辨与扫描成像红外调制光致发光光光谱测试方法。本发明是一种检测窄半导体材料光学性质和能带结构空间均匀度的光谱学测试装置和方法,具有无损高灵敏优点,非常适合于大面积红外探测器面阵材料的平面空间均匀性检测。 |
交易流程
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专利 -
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