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低温气相宏量生长高质量、平直碳纳米管的方法及装置

  • 申请号:CN201410140855.4
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院金属研究所
  • 公开(公开)号:CN103922310A
  • 公开(公开)日:2014.07.16
  • 法律状态:实质审查的生效
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专利详情

专利名称 低温气相宏量生长高质量、平直碳纳米管的方法及装置
申请号 CN201410140855.4 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN103922310A 公开(授权)日 2014.07.16
申请(专利权)人 中国科学院金属研究所 发明(设计)人 侯鹏翔;刘畅;成会明;石超;丛洪涛
主分类号 C01B31/02(2006.01)I IPC主分类号 C01B31/02(2006.01)I;B82Y40/00(2011.01)I
专利有效期 低温气相宏量生长高质量、平直碳纳米管的方法及装置 至低温气相宏量生长高质量、平直碳纳米管的方法及装置 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 本发明涉及碳纳米管的制备技术,具体为一种低温气相宏量生长高质量、平直碳纳米管的方法及其专用装置。催化剂前驱体、生长促进剂、惰性剂粉末在常温下混合均匀,由载气及碳源匀速、极低量输入反应区,反应区为垂直或水平管式炉。其中生长温度为500~1000℃,催化剂前驱体为Fe、Ni或Co的有机化合物、无机盐、纯金属粉末等,供量为2×10-8~2.9×10-7克当量/小时·cm2;生长促进剂为含硫有机物,供量为1×10-10~2.9×10-9克当量/小时·cm2;碳源为小分子碳氢化合物,供量为1×10-5~3.9×10-4克当量碳/分钟·cm2;载气为氩气或氮气或氦气或氢气,供量为1~100ml/分钟·cm2。生长过程中根据需要通入刻蚀剂,实现低成本、低能耗、宏量生产高纯度、高质量、平直、小直径碳纳米管。

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