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半导体器件及其制造方法

  • 申请号:CN201310014872.9
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院微电子研究所
  • 公开(公开)号:CN103928334A
  • 公开(公开)日:2014.07.16
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 半导体器件及其制造方法
申请号 CN201310014872.9 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN103928334A 公开(授权)日 2014.07.16
申请(专利权)人 中国科学院微电子研究所 发明(设计)人 朱慧珑
主分类号 H01L21/336(2006.01)I IPC主分类号 H01L21/336(2006.01)I;H01L29/78(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I
专利有效期 半导体器件及其制造方法 至半导体器件及其制造方法 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 本申请公开了一种半导体器件及其制造方法。一示例器件可以包括:衬底,衬底中形成有阱区,所述阱区包括第一部分和第二部分,第一部分相比于第二部分掺杂浓度较低,且更接近衬底的表面;在衬底的表面上形成的鳍状结构;在衬底的表面上形成的隔离层,该隔离层露出鳍状结构的一部分,鳍状结构的露出部分用作该半导体器件的鳍;以及在隔离层上形成的与鳍相交的栅堆叠,其中,仅在鳍与栅堆叠相交的部分下方的区域中形成有穿通阻挡部。

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