
一种多束交替水射流抛光盘及抛光方法
- 申请号:CN201410182989.2
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院光电技术研究所
- 公开(公开)号:CN103934757A
- 公开(公开)日:2014.07.23
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
专利名称 | 一种多束交替水射流抛光盘及抛光方法 | ||
申请号 | CN201410182989.2 | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN103934757A | 公开(授权)日 | 2014.07.23 |
申请(专利权)人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明(设计)人 | 徐清兰;万勇建;张蓉竹;李秀龙;施春燕;张杨;罗银川 |
主分类号 | B24C1/08(2006.01)I | IPC主分类号 | B24C1/08(2006.01)I;B24C5/00(2006.01)I |
专利有效期 | 一种多束交替水射流抛光盘及抛光方法 至一种多束交替水射流抛光盘及抛光方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
说明书摘要 | 本发明是一种多束交替水射流抛光盘,该抛光盘包括:多组喷口和底座,在底座的轴心处设有一喷口,以该一喷口的轴心设置不同半径的第一同心圆和第二同心圆,并在第一同心圆和第二同心圆的圆周上布设通透于底座的多组喷口,每个喷口与底座的射流供料系统相连,供料系统为各喷口提供抛光磨料,使得交替水射流抛光零件表面时保证冲击区域内零件表面均匀的去除;每组喷口按照设定的不同时间段对加工工件表面进行加工,使得各个喷口水射流稳定独立,零件表面的去除函数稳定,去除量可控,去除分布均匀;再加工过程中产生的亚表面损伤层小,用于提高射流抛光的加工效率。本发明还提供一种使用多束交替水射流抛光盘的多束交替水射流抛光方法。 |
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