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提高光提取效率发光二极管的制备方法

  • 申请号:CN201410185391.9
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院半导体研究所
  • 公开(公开)号:CN103943739A
  • 公开(公开)日:2014.07.23
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 提高光提取效率发光二极管的制备方法
申请号 CN201410185391.9 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN103943739A 公开(授权)日 2014.07.23
申请(专利权)人 中国科学院半导体研究所 发明(设计)人 刘娜;孙雪娇;孔庆峰;梁萌;王莉;魏同波;刘志强;伊晓燕;王军喜;李晋闽
主分类号 H01L33/00(2010.01)I IPC主分类号 H01L33/00(2010.01)I
专利有效期 提高光提取效率发光二极管的制备方法 至提高光提取效率发光二极管的制备方法 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 一种提高光提取效率发光二极管的制备方法,包括:在一具有蓝宝石衬底的氮化镓LED外延片上表面的P型氮化镓层上制作一单层紧密排列的聚苯乙烯球;在聚苯乙烯球间隙填充二氧化硅凝胶;高温加热,形成二氧化硅碗状阵列;将二氧化硅碗状阵列的一部分覆盖光刻胶进行保护;将未保护的二氧化硅去除干净,然后在用去膜剂去除光刻胶;在剩余二氧化硅碗状阵列和P型氮化镓层的表面蒸镀反光金属薄膜,选用酸性硫酸铜电镀液在导电薄膜的上表面电镀金属铜;采用激光剥离技术去除外延片中的蓝宝石衬底,露出P型氮化镓层另一面的N型氮化镓层的表面;通过光刻技术、电子束蒸发技术和金属剥离技术在N型氮化镓层的表面沉积金属薄膜,作为N电极,位置刚好对应于下方的二氧化硅碗状阵列,完成制备。

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