
一种无辅助结构的无芯基板的制造方法
- 申请号:CN201410227935.3
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院微电子研究所;华进半导体封装先导技术研发中心有限公司
- 公开(公开)号:CN103987198A
- 公开(公开)日:2014.08.13
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
专利名称 | 一种无辅助结构的无芯基板的制造方法 | ||
申请号 | CN201410227935.3 | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN103987198A | 公开(授权)日 | 2014.08.13 |
申请(专利权)人 | 中国科学院微电子研究所;华进半导体封装先导技术研发中心有限公司 | 发明(设计)人 | 孙瑜;何晓锋 |
主分类号 | H05K3/00(2006.01)I | IPC主分类号 | H05K3/00(2006.01)I;H05K3/42(2006.01)I;H05K3/46(2006.01)I |
专利有效期 | 一种无辅助结构的无芯基板的制造方法 至一种无辅助结构的无芯基板的制造方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
说明书摘要 | 本发明公开了一种无辅助结构的无芯基板的制造方法,包括:在半固化片的双面覆盖铜箔,进行层压压合形成具有双面铜箔的基板,将上表面除边缘以外的铜减薄,下表面全部减薄;从基板的上表面向下进行激光钻孔,并在基板上进行双面沉铜、电镀,在基板双面形成铜层;对基板的正面进行蚀刻形成金属线路图形,然后对基板正面进行半固化片预压合,在基板正面形成介质层;对基板的背面进行蚀刻形成金属线路图形,然后在基板背面贴半固化片进行压合,使基板双面形成介质层;采用激光钻孔机对基板两面的介质层打盲孔,并对基板两面进行化学镀铜、电镀铜、图形化及蚀刻工艺,在基板两面形成第二层线路;对完成的基板进行表面处理,得到无辅助结构的无芯基板。 |
交易流程
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专利 -
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