专利详情

专利名称	光学材料光谱测试用低温杜瓦
申请号	CN201420028315.2	专利类型	实用新型
公开（公告）号	CN203772724U	公开（授权）日	2014.08.13
申请（专利权）人	中国科学院上海技术物理研究所	发明（设计）人	汪洋;陈安森;贺香荣;张亚妮;范广宇;龚海梅
主分类号	G01N21/01(2006.01)I	IPC主分类号	G01N21/01(2006.01)I
专利有效期	光学材料光谱测试用低温杜瓦至光学材料光谱测试用低温杜瓦	法律状态	授权
说明书摘要	本实用新型公开了一种光学材料光谱测试用低温杜瓦，由内外金属圆筒组成的真空密封容器，在过渡冷头上依次安装杜瓦冷头、测试样品、力学缓冲环和磁性压环组成测试样品固定结构。该结构的优点在于充分利用磁性压环与杜瓦冷头之间的磁性力，将测试样品可靠地固定在杜瓦冷头上，同时力学缓冲环可以很好地缓冲杜瓦冷头和磁性压环之间的磁性力，使杜瓦冷头和测试样品形成良好的热学和力学接触，保持测试样品处于低温，该结构安装和拆卸测试样品简单方便，避免测试样品表面污染和损伤，特别适合于水平光路条件下光学材料的低温透射光谱测试。