二维大规模激光束阵列占空比调节装置
- 申请号：CN201410172792.0
- 专利类型：发明专利
- 申请（专利权）人：中国科学院上海光学精密机械研究所
- 公开(公开)号：CN104020566A
- 公开(公开)日：2014.09.03
- 法律状态：实质审查的生效
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专利详情
| 专利名称 | 二维大规模激光束阵列占空比调节装置 | ||
| 申请号 | CN201410172792.0 | 专利类型 | 发明专利 |
| 公开（公告）号 | CN104020566A | 公开（授权）日 | 2014.09.03 |
| 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 周军;杨依枫;何兵;刘厚康;郑也;胡曼 |
| 主分类号 | G02B27/09(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B27/09(2006.01)I |
| 专利有效期 | 二维大规模激光束阵列占空比调节装置 至二维大规模激光束阵列占空比调节装置 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
| 说明书摘要 | 一种二维大规模激光束阵列占空比调节装置，包括共轴放置的凸面角锥棱镜与凹面角锥棱镜，两角锥棱镜直径相同，边缘厚度相同，圆锥面互补。该装置可以实现二维排布的大规模激光束阵列占空比的调节，从而提高相干合成远场艾里斑的亮度。该装置具有占空比调节范围大，调节方便，结构简单紧凑，稳定性高等优点。 | ||
交易流程
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选取所需
专利 -
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确认专利
可交易 - 03 签订合同
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成功 - 06 支付尾款
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过户资料
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