
一种有序堆积的纳米线膜/体的制造方法
- 申请号:CN201410318509.0
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院微电子研究所;华进半导体封装先导技术研发中心有限公司
- 公开(公开)号:CN104045056A
- 公开(公开)日:2014.09.17
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
专利名称 | 一种有序堆积的纳米线膜/体的制造方法 | ||
申请号 | CN201410318509.0 | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN104045056A | 公开(授权)日 | 2014.09.17 |
申请(专利权)人 | 中国科学院微电子研究所;华进半导体封装先导技术研发中心有限公司 | 发明(设计)人 | 褚衍彪;万里兮 |
主分类号 | B82B3/00(2006.01)I | IPC主分类号 | B82B3/00(2006.01)I;B82Y40/00(2011.01)I |
专利有效期 | 一种有序堆积的纳米线膜/体的制造方法 至一种有序堆积的纳米线膜/体的制造方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
说明书摘要 | 本发明提供了一种有序堆积的纳米线膜/体的制造方法。包括:准备事先制备的纳米线;将所述纳米线悬浮在溶剂中,形成均匀的悬浊液;将所述悬浊液装入离心管;所述悬浊液进行高速离心沉淀,所有的纳米线沉淀在管底,形成有序堆积的纳米线沉淀;移除上清液,将有序堆积的纳米线沉淀进行烘干并从离心管管底剥离,完成制造有序堆积的纳米线膜/体。本发明提供的纳米线膜/体的制造方法不需要生长种子层就能获得致密的纳米材料,且不受材料和制备方法的限制。 |
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