
半极性面氮化镓基发光二极管及其制备方法
- 申请号:CN201410147977.6
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院半导体研究所
- 公开(公开)号:CN104112803A
- 公开(公开)日:2014.10.22
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
专利名称 | 半极性面氮化镓基发光二极管及其制备方法 | ||
申请号 | CN201410147977.6 | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN104112803A | 公开(授权)日 | 2014.10.22 |
申请(专利权)人 | 中国科学院半导体研究所 | 发明(设计)人 | 项若飞;汪连山;赵桂娟;金东东;王建霞;李辉杰;张恒;冯玉霞;焦春美;魏鸿源;杨少延;王占国 |
主分类号 | H01L33/16(2010.01)I | IPC主分类号 | H01L33/16(2010.01)I;H01L33/18(2010.01)I;H01L33/32(2010.01)I;H01L33/20(2010.01)I;H01L33/06(2010.01)I;H01L33/12(2010.01)I;H01L33/00(2010.01)I |
专利有效期 | 半极性面氮化镓基发光二极管及其制备方法 至半极性面氮化镓基发光二极管及其制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
说明书摘要 | 本发明提供一种半极性面氮化镓基发光二极管及其制备方法,其中发光二极管包括:一衬底,其表面具有周期排列的凸起图形;一氮化铝缓冲层沉积在凸起图形之间的间隔区内;一未掺杂半极性面氮化镓层,其制作在氮化铝缓冲层的上面,该未掺杂半极性面氮化镓层与衬底表面的凸起图形之间具有空隙区,可阻隔位错缺陷向上延伸;一半极性面氮化镓N型层,其制作在未掺杂半极性面氮化镓层上;一半极性面N型铟镓氮插入层,其制作在半极性面氮化镓N型层上;一半极性面铟镓氮/氮化镓多量子阱活性发光层,其制作在半极性面N型铟镓氮插入层上;一半极性面P型铝镓氮电子阻挡层,其制作在半极性面铟镓氮/氮化镓多量子阱活性发光层上;一半极性面P型氮化镓层,其制作在半极性面P型铝镓氮电子阻挡层上。 |
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