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半极性面氮化镓基发光二极管及其制备方法

  • 申请号:CN201410147977.6
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院半导体研究所
  • 公开(公开)号:CN104112803A
  • 公开(公开)日:2014.10.22
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 半极性面氮化镓基发光二极管及其制备方法
申请号 CN201410147977.6 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN104112803A 公开(授权)日 2014.10.22
申请(专利权)人 中国科学院半导体研究所 发明(设计)人 项若飞;汪连山;赵桂娟;金东东;王建霞;李辉杰;张恒;冯玉霞;焦春美;魏鸿源;杨少延;王占国
主分类号 H01L33/16(2010.01)I IPC主分类号 H01L33/16(2010.01)I;H01L33/18(2010.01)I;H01L33/32(2010.01)I;H01L33/20(2010.01)I;H01L33/06(2010.01)I;H01L33/12(2010.01)I;H01L33/00(2010.01)I
专利有效期 半极性面氮化镓基发光二极管及其制备方法 至半极性面氮化镓基发光二极管及其制备方法 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 本发明提供一种半极性面氮化镓基发光二极管及其制备方法,其中发光二极管包括:一衬底,其表面具有周期排列的凸起图形;一氮化铝缓冲层沉积在凸起图形之间的间隔区内;一未掺杂半极性面氮化镓层,其制作在氮化铝缓冲层的上面,该未掺杂半极性面氮化镓层与衬底表面的凸起图形之间具有空隙区,可阻隔位错缺陷向上延伸;一半极性面氮化镓N型层,其制作在未掺杂半极性面氮化镓层上;一半极性面N型铟镓氮插入层,其制作在半极性面氮化镓N型层上;一半极性面铟镓氮/氮化镓多量子阱活性发光层,其制作在半极性面N型铟镓氮插入层上;一半极性面P型铝镓氮电子阻挡层,其制作在半极性面铟镓氮/氮化镓多量子阱活性发光层上;一半极性面P型氮化镓层,其制作在半极性面P型铝镓氮电子阻挡层上。

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