基于溶胶射流靶的LPP-EUV光源系统
- 申请号：CN201510270184.8
- 专利类型：发明专利
- 申请（专利权）人：中国科学院上海光学精密机械研究所
- 公开(公开)号：CN104914680A
- 公开(公开)日：2015.09.16
- 法律状态：实质审查的生效
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专利详情
| 专利名称 | 基于溶胶射流靶的LPP-EUV光源系统 | ||
| 申请号 | CN201510270184.8 | 专利类型 | 发明专利 |
| 公开（公告）号 | CN104914680A | 公开（授权）日 | 2015.09.16 |
| 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 张宗昕;冷雨欣;王成;赵全忠;王关德;程欣;李儒新 |
| 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 专利有效期 | 基于溶胶射流靶的LPP-EUV光源系统 至基于溶胶射流靶的LPP-EUV光源系统 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
| 说明书摘要 | 一种基于溶胶射流靶的LPP-EUV光源系统，由溶胶发生装置、溶胶喷射-循环装置、LPP-EUV发生装置和泵浦激光源所构成。首先由溶胶发生装置产生溶胶，再经溶胶喷射-循环装置而在LPP-EUV发生装置内形成溶胶射流靶。由泵浦激光源输出泵浦激光，进入LPP-EUV发生装置后作用于溶胶射流靶。本发明基于溶胶射流靶增强LPP-EUV光源的可靠性与稳定性，为EUV光刻系统的高效稳定运行提供有力保障。 | ||
交易流程
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专利 -
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