专利详情

专利名称	一种用于极紫外光刻机的动态气体隔离装置
申请号	CN201620536864.X	专利类型	实用新型
公开（公告）号	CN206133184U	公开（授权）日	2017.04.26
申请（专利权）人	中国科学院光电研究院	发明（设计）人	陈进新;崔惠绒;张立佳;谢婉露;吴晓斌;王宇
主分类号	G03F7/20(2006.01)I	IPC主分类号	G03F7/20(2006.01)I
专利有效期	一种用于极紫外光刻机的动态气体隔离装置至一种用于极紫外光刻机的动态气体隔离装置	法律状态
说明书摘要	本实用新型公开了一种用于极紫外光刻机的动态气体隔离装置，特别适用于极紫外光刻机。动态气体隔离装置的主体为筒状，具有两个开口端，其轴向的中部位置具有一隔板将内部空间隔成两个腔室。隔板上开有外气流通道连通两个腔室。外气流通道侧面的隔板内有内气流通道，清洁气体由充气装置进入，通过内、外气流通道分别流入两个腔室。本实用新型能有效地隔离极紫外光刻机中超清洁真空环境和清洁真空环境，抑制污染气体分子由清洁真空环境向超清洁真空环境扩散。