专利详情

专利名称	一种真空下用于纳米颗粒制备的孔径可调的气孔装置
申请号	CN201621085002.6	专利类型	实用新型
公开（公告）号	CN206127397U	公开（授权）日	2017.04.26
申请（专利权）人	钢铁研究总院;中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司	发明（设计）人	何峻;夏振军;季格致;马锦;朱玉红;欧修龙;赵崇凌;赵栋梁
主分类号	C23C14/24(2006.01)I	IPC主分类号	C23C14/24(2006.01)I;B82Y40/00(2011.01)I
专利有效期	一种真空下用于纳米颗粒制备的孔径可调的气孔装置至一种真空下用于纳米颗粒制备的孔径可调的气孔装置	法律状态
说明书摘要	本实用新型涉及纳米材料制备领域，尤其是用于纳米颗粒的制备的孔径可调的气孔装置，其包括内真空室(1)、外真空室(9)和真空室前法兰(2)、气孔板(4)和密封机构(5)，真空室前法兰(2)固接在内真空室(1)的出口端，真空室前法兰(2)上开有通道(10)，通道(10)的出端设有气孔板(4)；气孔板(4)上开有多组孔径不同的气孔(8)，气孔板(4)上不同孔径的气孔可调节的与通道(10)匹配，通道(10)与气孔板(4)之间有气体密封的密封机构(5)。本实用新型的气孔装置，在不破坏真空的条件下，可以通过驱动装置驱动气孔板进行旋转以改变气孔孔径，从而生产出尺寸均一可控的纳米颗粒，提高生产效率，节约资源。