专利详情

专利名称	一种可用于大基片镀膜的浸渍提拉装置
申请号	CN201621405202.5	专利类型	实用新型
公开（公告）号	CN206356201U	公开（授权）日	2017.07.28
申请（专利权）人	辽宁中迅科技有限公司;辽宁一一三（集团）化工有限责任公司;中国科学院金属研究所	发明（设计）人	段治邦;程小平;吴杰
主分类号	B05C3/10(2006.01)I	IPC主分类号	B05C3/10(2006.01)I
专利有效期	一种可用于大基片镀膜的浸渍提拉装置至一种可用于大基片镀膜的浸渍提拉装置	法律状态
说明书摘要	本实用新型属于化工制造及表面技术应用领域，尤其涉及一种可用于大基片镀膜的浸渍提拉装置。该装置在框架的中部设置托板，托板将框架分成上下两个腔室，位于托板下的腔室中设置溶液槽，无动力辊轴设置于溶液槽底部；位于托板上的腔室中设置镀膜件、立柱、丝杠、丝杠安装座，立柱的顶部与支架顶部连接，立柱的底部与托板连接；立柱的一侧通过安装丝杠安装座，丝杠安装座上下设置，丝杠穿过丝杠安装座，并与丝杠安装座呈螺纹配合。本实用新型可用于大基片镀膜的浸渍提拉装置的镀膜方法，一次提拉可生产5片800×700毫米基板的均匀光学镀膜，生产的减反增透膜没有彩虹纹，即没有光学不均匀性。