专利详情

专利名称	一种高阶映射光谱成像系统
申请号	CN201621057018.6	专利类型	实用新型
公开（公告）号	CN206430817U	公开（授权）日	2017.08.22
申请（专利权）人	中国科学院西安光学精密机械研究所	发明（设计）人	李立波;唐兴佳;李思远;王爽;赵强;李学龙;胡炳樑;刘学斌;王锋
主分类号	G01J3/28(2006.01)I	IPC主分类号	G01J3/28(2006.01)I;G01J3/02(2006.01)I;G01B11/00(2006.01)I
专利有效期	一种高阶映射光谱成像系统至一种高阶映射光谱成像系统	法律状态
说明书摘要	本实用新型属于光学领域，尤其涉及一种高阶映射光谱成像系统。本实用新型基于高阶映射，提出一种新型的高阶映射光谱成像方法。不同于一般的变换，高阶映射具有不同集合对应的特点和高维变换的特点，因而变换域更广、变换维度更高。同时，由于取消了狭缝色散和滤波分光，其高分辨率有所保证，而且高阶映射带来的多通道优势能保证高信噪；特别是，高阶映射可以实现多维信息的一致探测，其较先单维信息探测再组合的多维信息探测方式，其硬件要求降低。本实用新型的意义主要体现在：解决了高分辨率光谱成像的系统实现问题，解决了高信噪比光谱成像的能量不足问题，解决了高维光谱成像的技术手段问题。