专利详情

专利名称	全息光栅制作装置、曝光干涉条纹相位稳定装置及方法
申请号	CN201610537325.2	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN105954977A	公开（授权）日	2016.09.21
申请（专利权）人	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	发明（设计）人	宋莹;姜珊;唐玉国;巴音贺希格;潘明忠;李文昊
主分类号	G03F7/20(2006.01)I	IPC主分类号	G03F7/20(2006.01)I;G02B5/18(2006.01)I
专利有效期	全息光栅制作装置、曝光干涉条纹相位稳定装置及方法至全息光栅制作装置、曝光干涉条纹相位稳定装置及方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本申请提供一种全息光栅制作装置、曝光干涉条纹相位稳定装置及方法，其中，全息光栅曝光干涉条纹相位稳定装置包括分束光栅、光阑、第一平面反射镜、第二平面反射镜、第一扩束准直系统、第二扩束准直系统、光栅基底、测量光栅、第一光电探测器和第二光电探测器，以及压电陶瓷和控制器。通过分束光栅分束，形成干涉场，并通过光路调整，曝光光束的衍射光重合形成便于测量的莫尔条纹。在干涉条纹发生相位变化时，莫尔条纹也发生相位变化，通过两个光电探测器测量莫尔条纹的相位变化，间接得到干涉条纹的相位变化。控制器控制压电陶瓷带动分束光栅沿垂直光栅刻线方向运动，补偿曝光干涉条纹的相位变化，通过反馈控制稳定曝光干涉条纹的相位。