
一种防止交叉污染的多试剂顺序进液装置
- 申请号:CN201710084923.3
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院半导体研究所
- 公开(公开)号:CN106824006A
- 公开(公开)日:2017.06.13
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
专利名称 | 一种防止交叉污染的多试剂顺序进液装置 | ||
申请号 | CN201710084923.3 | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN106824006A | 公开(授权)日 | 2017.06.13 |
申请(专利权)人 | 中国科学院半导体研究所 | 发明(设计)人 | 魏清泉;俞育德;刘文文;刘元杰;杨翎 |
主分类号 | B01J4/00(2006.01)I | IPC主分类号 | B01J4/00(2006.01)I;B01L3/00(2006.01)I |
专利有效期 | 一种防止交叉污染的多试剂顺序进液装置 至一种防止交叉污染的多试剂顺序进液装置 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
说明书摘要 | 本发明提供了一种防止交叉污染的多试剂顺序进液装置,包括壳体、多试剂顺序进液系统;所述多试剂顺序进液系统设于所述壳体内;所述多试剂顺序进液系统为多层结构,其至少包括管道连接层、试剂注入导流层、废液导流层、清洗液导流层和反应池连接层,所述管道连接层、试剂注入导流层、废液导流层、清洗液导流层、反应池连接层相邻两层之间均是通过径向管道连接。本发明提供的多试剂顺序进液装置不仅无死体积,还有效的避免了试剂残留和多种试剂进液时的交叉污染。 |
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